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光化學高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源,環(huán)境、新藥研發(fā)領(lǐng)域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產(chǎn)。
電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品,裝置非標采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高,數(shù)據(jù)精確度及重復性好,安全可靠 并能長周期穩(wěn)定運行
濕式氧化實驗裝置,具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環(huán)形永磁驅(qū)動靜密封,攪拌力強,無泄露。適用于石油,化工,制藥,染料,軍工,礦冶,食品等行業(yè)的科研院所,和大專院校的科研領(lǐng)域,尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。
YZSR10L全自動反應釜采用 釜頭固定式、整機一體化設計,結(jié)構(gòu)合理,功能完善,中文菜單、輕松使用;全新觸摸屏式操作,是目前市場上高科技的實驗室反應設備;加熱系統(tǒng)與下釜體均采用電動升降模塊,左右旋轉(zhuǎn)90度,便于實驗操作;控制系統(tǒng)配備雙控溫模塊(釜內(nèi)與加熱器),自動進水降溫功能,超溫、超壓及故障聲光報警功能,恒溫定時及程序升溫等功能;
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